產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

眾所周知，納米材料科學(xué)與工程已經(jīng)成為世界性的研究熱點(diǎn)，在研究納米材料的表面改性時(shí)，往往要涉及潤(rùn)濕接觸角這個(gè)概念。所謂接觸角是指在一固體水平平面上滴一液滴，固體表面上的固－液－氣三相交界點(diǎn)處，其氣－液界面和固－液界面兩切線把液相夾在其中時(shí)所成的角。

應(yīng)用方向：

新表面表征、表面純度測(cè)試、固體表面處理評(píng)價(jià)、液體配方設(shè)計(jì)、表面清潔度分析、等離子清洗效果分析、固液體之間或固體黏駙特性研究、表面印刷性能的表征、玻璃（包括塑料或金屬等固體）表面潤(rùn)濕性研究、分析表面改性等

儀器應(yīng)用領(lǐng)域：

可用于如下領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究，應(yīng)用新方法，產(chǎn)品設(shè)計(jì)以及品質(zhì)控制等。

●TFT-LCD面板行業(yè)：玻璃面板潔凈度與鍍膜質(zhì)量測(cè)量；TFT打印電路、彩色濾光片、 ITO導(dǎo)體膠卷等前涂層質(zhì)量測(cè)量；半導(dǎo)體，平面顯示器、光學(xué)行業(yè)掩膜親水性測(cè)量

●印刷、塑膠行業(yè)：表面清潔與附著質(zhì)量測(cè)量；油墨附著度測(cè)量；催化劑測(cè)量；膠水膠體性質(zhì)相容性測(cè)量；染料的緊扣度

●半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)：晶圓的潔凈度測(cè)量；HMDS的處理控制；CMP的研究測(cè)量、光阻與顯影劑的研究

●化學(xué)材料研究：防水與親水性能材料研究探討；表面活性與清潔劑的張力、濕性；黏性增強(qiáng)與附著表面能測(cè)量

●IC封裝：基質(zhì)表面潔凈度；原子合成氧化識(shí)別；BGA焊接表面；環(huán)氧化物的附著度測(cè)量

●紙張、紙尿褲、衛(wèi)生護(hù)墊等材料的吸水性以及可印刷性等性質(zhì)分析；

●纖維、織物、碳纖維、玻璃纖維與樹脂的新功能開發(fā)、表面性質(zhì)、印染等性質(zhì)分析；

●液晶屏、硬盤、屏幕保護(hù)膜、觸摸屏、LCD、LED、光學(xué)零件、半導(dǎo)體芯片、Wafer、微電子等行業(yè)表面清潔度分析以及品質(zhì)控制、新材料開發(fā)研究以及等離子（Plasma）處理等表面處理效果評(píng)估；

●聚合物、高分子材料及金屬材料表面修飾、表面改性、印刷性質(zhì)等分析；

●薄膜、偏光片、膠片、感光材料的新材料開發(fā)、印刷性等分析；

●生物材料、仿生材料的研發(fā)及其應(yīng)用分析，如檢測(cè)和表征蛋白質(zhì)、肺表面活性劑、表征生物相容性材料（高分子材料）的潤(rùn)濕和粘附性、競(jìng)爭(zhēng)以及粘附的蛋白質(zhì)。

●超疏水和超親水材料的研究、可潤(rùn)濕性分析；

●電潤(rùn)濕接觸角轉(zhuǎn)化、電透鏡研究等；

●大學(xué)實(shí)驗(yàn)室研發(fā)、課題、研究等；

符合國(guó)家的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)：

●GB/T 24368-2009(玻璃表面疏水污染物檢測(cè))

●SY/T5153-2007（油藏巖石潤(rùn)濕性測(cè)定方法）

●ASTM D 724-99（2003）（紙的表面可濕性的試驗(yàn)方法）

●ASTM D5946-2004（塑料薄膜與水接觸角度的測(cè)量）

●ISO15989（塑料薄膜和薄板電暈處理薄膜的水接觸角度的測(cè)量）

技術(shù)參數(shù)：